Campos Racing y el anglo-coreano Jack Aitken han brillado una vez más en la jornada dominical consiguiendo un nuevo podio en la ultra competitiva FIA F2. El británico Aitken fue de nuevo el autor de una actuación soberbia para subir por segunda vez consecutiva al podio en el principal campeonato soporte de los Grandes Premios de F1 sumando al mismo tiempo puntos muy valiosos para la clasificación.

Tras su tercera posición del sábado, Aitken se situaba tercero en la parrilla invertida para la segunda carrera disputada este domingo. Mientras, su compañero brasileño Guilherme Samaia partía vigésimo con el Dallara F2 de Campos Racing que porta el dorsal número 10. Aitken protagonizó una fenomenal salida ganando dos posiciones tras la primera curva.

El anglo-coreano se centró en cuidar sus neumáticos y de esta forma tener un ritmo consistente durante la totalidad de la carrera. Al mismo tiempo, supo mantener a raya cualquier intento de sus perseguidores, primero Christian Lundgaard y posteriormente Louis Deletraz, cuando el suizo superó al danés.

En las vueltas finales, Aitken comenzó a rodar más rápido gracias a la gestión que había realizado de sus gomas y pudo escaparse de los pilotos que rodaban por detrás. Mientras, por delante, Mick Schumacher y Robert Shwartzman hacían contacto, circunstancia ésta que supo aprovechar Aitken para situarse tercero tras adelantar al ruso cuando apenas faltaba un giro para el final. Tras veintiuna vueltas, Aitken pasaba bajo la bandera a cuadros en tercera plaza. Samaia cruzó por línea de meta decimonoveno.

Tras un fin de semana realmente competitivo en Silverstone, Campos Racing se dirigirá ya a Barcelona donde tendrá lugar la sexta prueba de la temporada dentro de apenas una semana. El Gran Premio de España se celebrará en el Circuit de Barcelona-Catalunya en el que Campos Racing quiere proseguir la racha de podios en casa.